О графике освоения компанией Intel очередных ступеней литографического техпроцесса мы последний раз слышали в начале мая.
Тогда взору общественности открылась перспектива до 2015 года
включительно – компания рассчитывает к этому времени освоить 10 нм
техпроцесс.
На этой неделе Intel провела мероприятие по имени Research@Intel,
в рамках которого первые лица компании рассказали о планах на будущее и
перспективных разработках. График освоения новых ступеней
литографического техпроцесса был продлён за пределы 2015 года – теперь
Intel открыто указывает, что в 2017 году планирует освоить 7 нм
технологические нормы.
Между те 
м, полный перечень технологий, которые позволят выпускать
полупроводниковые элементы подобных размеров, ещё не определён. Intel не
исключает, что в этом десятилетии начнёт использовать соединения
германия, оптические межсоединения, вычислительную литографию,
нановолокна, а также синтезируемые на молекулярном уровне материалы
нового типа.
Источник
|
