Компания ASML Holding NV, специализирующаяся на выпуске оборудования
для полупроводникового производства, отгрузила первую в мире
предсерийную установку для литографии в жестком ультрафиолетовом
диапазоне (EUV), которую сам производитель относит ко второму поколению
этой продукции. Хотя ASML молчит на этот счет, по некоторым данным,
получателем системы NXE:3100 является компания Samsung Electronics.
Южнокорейский производитель рассчитывает использовать технологию
EUV-литографии для выпуска памяти типа DRAM по нормам менее 20 нм.
Еще пять систем NXE:3100 находятся в разной степени готовности.
Они будет отгружены заказчикам до середины года. Предполагается, что это
оборудование получат Intel, Toshiba, TSMC, Hynix и IMEC.
Разрешение NXE:3100 равно 27 нм, числовая апертура (NA) — 0,25,
при этом достигается точность позиционирования не хуже 4,5 нм, а
пропускная способность равна 60 пластин в час. Цена предсерийного
образца EUV-сканера составляет почти 90 млн. долларов. По некоторым
оценкам, за вариант, подходящий для серийного производства, компания
запросит 125 млн. долларов.
Пока неясно, насколько EUV-литография готова к использованию в
производстве, поскольку разработка источников энергии и других
компонентов отстает от графика. Проблемой остается пропускная
способность, еще не достигшая уровня, необходимого для серийного
производства, отмечает источник.
Компания Nikon, выступающая конкурентом ASML, полагает, что EUV
не будет готова к использованию при переходе на нормы 22 нм. Пока
японский производитель создал две тестовые установки для EUV. Одна
находится в самой компании, а вторую получила японская
научно-исследовательская организация Selete.
Источник
|
